Partikel sind die bekanntesten Defekte von Wafern. Beim Transport, beim Verarbeiten oder auch in den Anlagen selbst können sich Partikel wie Staub oder Materialabrieb auf dem Wafer anlagern und dort zu einer unerwünschten Abdeckung führen. Dadurch wird die Verarbeitung im betroffenen Bereich beeinflusst. Die Partikel können dort die Abscheidung oder das Ätzen von Schichten verhindern. Dies kann zu Fehlfunktionen wie zum Beispiel Kurzschlüssen oder fehlenden elektrischen Verbindungen zwischen Leiterbahnen führen.
Der Partikelinspektor von EVT Eye Vision Technology analysiert die Oberfläche der Wafer auf Staub und sonstige Partikel. Das Messprinzip basiert auf einem Laserstrahl, der über den Wafer geführt wird. Dieser Wafer wirft Streulicht zurück, das mittels Photodioden in ein elektrisches Signal umgewandelt werden kann. Das Signal wird dann von einem Prozessor mit bereits zuvor abgespeicherten Referenzwerten verglichen.
Die EyeVision Software meldet jegliche Abweichungen und kann so eine Bewertung der Wafer auf Gut oder Schlecht durchführen. Sie ist laut Anbieter einfach zu bedienen. Zudem soll der Partikelinspektor ohne Weiteres in der grafischen Benutzeroberfläche konfiguriert werden können.
